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30.09.2013 - Deutsches Patent- und Markenamt baut internationale Beziehungen weiter aus

Am 24. September 2013 haben die Präsidentin des Deutschen Patent- und Markenamts (DPMA), Cornelia Rudloff-Schäffer, und Tan Yih San, Chief Executive des Amts für geistiges Eigentum von Singapur (IPOS), eine gemeinsame Erklärung über die bilaterale Zusammenarbeit unterzeichnet.

Die beiden Ämter beabsichtigen, auf dem Gebiet der Patentverfahren zu kooperieren und ein Pilotprojekt zum Patent Prosecution Highway (PPH) zu erarbeiten. Weitere Kernbereiche der künftigen, verstärkten Zusammenarbeit sind der Informationsaustausch zu Fragen der Aus- und Fortbildung von Mitarbeitern und zu allgemeinen Verwaltungsangelegenheiten sowie der Datenaustausch und gemeinsame Veranstaltungen zu Fachthemen.

"Die Erklärung über die bilaterale Zusammenarbeit ist ein wichtiger Meilenstein in den Beziehungen zwischen den Patent- und Markenbehörden in Deutschland und in Singapur", erläutert Cornelia Rudloff-Schäffer, Präsidentin des DPMA. "Die verstärkte Zusammenarbeit zwischen dem IPOS und dem DPMA eröffnet den Anmeldern aus beiden Ländern verbesserte Möglichkeiten beim Schutz ihres geistigen Eigentums".

Chief Executive Tan Yih San betont: "Durch die gemeinsame Erklärung über eine verstärkte Zusammenarbeit zwischen dem IPOS und dem DPMA werden unsere bilateralen Beziehungen vertieft. Diese Kooperation eröffnet vielen in Singapur ansässigen Unternehmen einen besseren Zugang zu dem regen deutschen Markt. Durch den Austausch von Fachleuten auf dem Gebiet des gewerblichen Rechtsschutzes profitieren unsere Nutzer des IP-Systems und lernen von einer der erfolgreichsten Technologienationen der Welt."

Mit dieser Kooperation baut das DPMA seine internationalen Beziehungen zu Patent- und Markenbehörden weiter aus. Die Vereinbarung mit dem IPOS hat eine Laufzeit von drei Jahren mit der Option der Verlängerung.

 

Quelle: Presssemitteilung des DPMA vom 30. September 2013